信息技术部的银河『操』作系统已经到了最后阶段，内核都已经完成，预计这个月末就能开启用户测试，不需要钟子星『操』心。

所以，他迫不及待的就离开了信息部和江浩然转向元素演变部。

中子战星。

几十个化学实验室里分布着上千人，大家联合实验，都领了各自的任务，投入最擅长的行列。

有的研究光致抗蚀剂、电镀化学品、封装材料，部分人攻克高纯试剂、特种气体、溶剂、清洗前掺杂剂、焊剂掩模、酸及腐蚀剂、电子专用胶黏剂。

这些电子化学品的人才国内非常多，但受限于环境被大量的埋没。

此时，他们都被中子星科技的超级人才库收集，一个个发了offer邀请过来。

业内顶级的条件，最好的环境，不计代价的投入资金，加上有钟子星在一旁指导，化学实验室三天两头就有突破的好消息传来。

但是，距离真正能够上台的高级成品，还有很长一段路要走。

电子化学品，大部分学过化学的人都有接触过，甚至在老师的领队下亲自参与过这些材料的合成。

比方说光刻胶，化学选修课有机化学基础上，就有非常详细完整的合成路线，并且这种路线完全正确，老师还会给学生发布任务，让大家联合动手。

可完整归完整，大家都能按照步骤一点点的合成，想要登上舞台，让半导体巨头使用你的光刻胶这是不可能的。

电子化学最高壁垒不是一句空话。

随着光刻工艺的升级，对光刻胶的要求也越来越高。

为了避免光刻胶线条倒塌，线宽越小的光刻工艺，如目前的32n，28n、22n光刻，对光刻胶的要求高的离谱，所需厚度越来越薄。

22n的光刻技术制程，光刻胶的厚度要求达到了是100n左右。

太厚曝光不足，太薄又无法有效的形成光阻，不能阻挡等离子体对衬底的刻蚀，非常的麻烦，必须要严格按照标准来镀膜。

钟子星与江浩然两人都穿着白大衣，带着护目镜和口罩，身边还跟着几位助手，独占一间实验室。

“第20次实验，厚度依然无法达标”

江浩然『操』作着一台电子显示器，屏幕上的光刻胶厚度以数学模型呈现，均匀分布，但是远远无法达到顶尖的水准。

稍微低端的刻蚀足够，但绝对无缘顶级市场。

“得从其他方面入手”

“比如加入一些别的材料硅材料或碳材料”钟子星双手扶着白『色』的实验台，陷入沉思。

以传统的方式进入光刻胶领域，想要超越深耕此道数十年的老牌巨头显然是不现实的，得走一走别的路才行。

“试试看，开始第21次实验”

科研就是在失败中前进，没有人能形容找到路时那种心情，重要的是敢于尝试。

“好”江浩然话不多，能动手绝不多说。

两人加上数个助理立刻开始投入新的实验，在光刻胶中加入其他材料，无论是光敏强或弱，都在试验范围之内。

把含硅光刻胶旋涂在一层较厚的聚合物材料，设想中，其对光是不敏感的。

“曝光显影，用氧等离子体刻蚀，把光刻胶上的图形转移到聚合材料上。”

“行”

一次次实验成功失败，对如何做好光刻胶有了更深的了解，他们逐渐发现，如果含硅光刻胶旋涂在一层较厚的聚合物材料上，在同等条件下，刻蚀选择『性』提高了不止一个档次。

“继续”实验室内几人的心一下子提了上来。

如果说近期科技圈最引人瞩目的事是中子星科技一个月前授权出去震撼全国的